哈工大正式宣布，突破EUV光刻机关键技术，欧美优势不在？

207

发表时间：2023-03-10 20:35作者：云选校

EUV光刻机的复杂程度是超乎想象的，从几则数据就能看出端倪。EUV光刻机采用了10万个零部件，背后有5000家供应商，ASML作为制造商，自主技术占比只有10%。

这意味着EUV光刻机是全球顶级科技的产物，不是某家企业掌握一项领先技术就能造出来的。但同样的，厚积才能薄发，比如哈工大正式宣布，突破EUV光刻机关键技术。

光刻机产业的入局门槛非常高，想要在产业内站稳脚跟，不仅需要投入大量的人力物力，而且需要长时间的积累沉淀。放眼全球，也只有四家公司具备光刻机量产能力。

分别是荷兰ASML，日本尼康，佳能和中国的上海微电子。这些公司能够生产整机光刻机设备，但制程技术有很大的区别。目前只有ASML实现最顶级的EUV光刻机量产。

ASML垄断了全球100%的EUV光刻机市场，客户要想采购只能找ASML下单合作。

关键在于，EUV光刻机不是想买就能买的，ASML还需要按规则行事，不在供货范围内的厂商有再多钱也买不到。原因大家都清楚，美国这些年在半导体产业频频修改规则。

如果要想解决光刻机的问题，很大程度需要靠自研。正如中国工程院院士倪光南所说：“核心技术买不来，换不来。”对于复杂的光刻机研发问题，国内有何实际进展呢？

对此，哈尔滨工业大学正式官宣，公布了一项“高速超精密激光干涉仪”研发成果。

相关资料显示，高速超精密激光干涉仪是一项可以用于7nm及以下的技术，确保双工件台，物镜系统之间复杂的相对位置，并提供关键的共性技术储备，提高光刻机精度。

换句话说，该技术面向高端装备领域的测量问题，提高激光的精度和准度，意义很大。

如果运用得当，在将来实现产业化落地进程时，或将成为EUV光刻机的关键技术应用。在此之前，哈工大还处于成果公布阶段。但表现出来的应用能力和潜力是值得探究的。

值得一提的是，高速超精密激光干涉仪技术还获得了世界光子大会“金燧奖”的金奖。这一奖项汇聚国内顶尖的光电仪器，光学技术等各类成果，能获得金奖可见影响力。

无独有偶，去年3月份，哈工大也传出过在激光领域的突破消息。彼时哈工大（深圳）微纳光电团队与各大研究机构发布了基于新型深紫外激光器件领域的关键研究成果。

该成果针对小型化短波激光器提供了解决问题的思路，对DUV深紫外光刻机带来方案。

任何一款半导体设备的量产上市都是经过无数科研人员的刻苦研发，尤其是EUV光刻机。难以想象背后的供应商们付出了多少努力，几十年如一日深耕其中，攻坚克难。

所以别看ASML掌握了EUV光刻机量产能力，其实凝聚了全人类智慧的结晶。在各个科技的支持下，整合了全球产业链资源，才实现了EUV光刻机量产，造出高端芯片。

哈工大公布了相关的激光技术成果，本质上和EUV，DUV光刻机的光源有着密切联系。

我们不知道未来会塑造怎样的产业未来，但可以确定的是，国内科研人员，各大高校人才不会停止探索的步伐。光刻机的研发之路还很漫长，光刻机产业生态也很重要。

国内有整机光刻机制造商上海微电子，在光刻机核心四大件的背后也有国产厂商布局。

比如双工件台主要包括华卓精科参与制造，国望光学负责光学系统，科益虹源提供光源系统。另外，启尔机电，国科精密等厂商在各自不同的光刻机领域加大自主研发。

纵观全球光刻机市场，欧美的优势恐怕不在了，因为规则会导致越来越多的供应商走上自主化路线。正如ASML所说的一样，不能出货会促使中国市场加快自主研发。

ASML不能决定EUV光刻机的出货与否，即便ASML有意提高出货量，维持自由贸易。但也必须明白一点，核心技术买不来，通往光刻机产业未来的路，还需要自己往前走。

分享到：